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CIF專注材料表面處理技術,為客戶提供專業清洗、去膠、刻蝕、涂層等方面儀器裝備和應用工藝解決方案!國際學術期刊《Nano Letters》(ACS旗下納米科技期刊《納米快報》)在線發表了關于二維半導體WSe?超低阻p型接觸的突破性研究成果。該研究提出半導體 - 半導體范德華接觸新策略,實現了WSe?器件高性能p型歐姆接觸,為下一代二維CMOS 集成技術發展奠定重要基礎。
等離子清洗機在光學領域的應用和發展具有重要意義。光學器件的制造和維護過程中,表面污染和不潔凈物質可能會導致光學性能的下降,因此,使用等離子清洗機進行表面處理是一種有效的技術。
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